tfcalc軟件中文修改版是一款非常不錯的圖像計算軟件，軟件可以為你提供準確的計算信息，讓你能夠隨時的掌握精確的計算結果，為你的工作提供最便捷的渠道，有需要的朋友歡迎到當易網下載軟件！

光學薄膜設計軟件修改版內容簡介：

tfcalc軟件可以使你分析設計多層薄膜，他們的一些功能如下：

它可以將反射率、透過率、吸收率、光密度、損失、顏色、亮度、psi、基于反射后投射的相移和電場強度計算并繪制表格。

它可以分析膜系設計同生產之間的誤差。優化可以使誤差最小化。膜層靈敏度可以計算并演示出來。

可以在一系列圓錐角（就像集中的光束一樣）和用戶定義的輻射發散角內分析一個膜系。

鍍膜所用膜料、基底和外部介質可能是彌散或者吸收的，而內部介質卻是彌散的。彌散公式可以用來給定膜料和基底的相關系

數。

基底或膜層的折射率（n和k）可以由測定的數據來確定。光源要詳細說明。薄膜的折射或投射可以儲存作為光源，所以濾光器的

輸出可作為另一個濾光器的輸入。同樣，黑體光源可以由此產生。

探測器的功能：

基底有有限的厚度；折射和透射計算時要考慮到基底后表面和基底內部的任何衰減。

一個膜系最多可以有5000層150種材料組成。

膜堆以公式的形式出現，例如：h(lh)^5

膜層可以被安排在組內，可以整組優化。

全球搜索用來尋找最好的設計方案而不僅僅是the local minimum

基底兩側的膜層可以同時優化。在優化過程中，膜層厚度可以限定在最小和最大厚度之間。

有多達5000個優化目標可以指定。同樣，一個目標可以是一個不等式，例如<10%或>90％。

復合環境可以用來開發像復合基底的膜系設計。

needle優化可以在設計中自動加入膜層，尤其是對那些有特殊要求的設計。這種掘進方法可以用來自動產生一系列最佳的設計。

目標可能會自動產生。同樣，目標也可以從文件中讀出，形成顏色和亮度目標。

第二和第三階關于波長或波數的導數可以用作目標。

可以計算出等效系數來將膜層用復合系數的等效膜堆[例如：(hlh)^p或(lhl)^p]來代替。

有三種local 優化方法可選：梯度法、變尺度法和單純形法。

對不限定數量的材料、基底、光源、探測器和分配的數據要輸入。

六層薄膜運算的結果放入一個表格內進行對比。不同類的圖表將被覆蓋掉,例如：折射透射。

最小、最大和平均參量（例如折射率）可以在一定波長范圍內計算。

結果被保存在文本文檔中以供其他軟件編輯。

光控曲線可以計算并列表。

file menu（文件目錄）：

用此目錄來讀取、寫入和打印膜系文件。一下主要介紹每個目錄項：

new coating（創建新膜系）

開始創建一個新的膜系，如果在tfcalc程序同一目錄下存在一個膜系名為default，那么就會打開此膜系文件。快捷鍵：

control-n

open coating（打開文件）

讀取磁盤中已經存在的膜系文件，程序會顯示每一個膜系文件的名字并要求你選擇一個打開。當tfcalc開始運行時就會顯示此窗

口。全部膜系文件都是以tfd作為后綴名。快捷鍵：control-o

reopen coating（從新打開膜系）

用來打開一個原來打開過的膜系，tfcalc保存最近20個用戶打開的膜系，當用戶選定此命令時，膜系會顯示在一個窗口中。

close coating（結束膜系）

選此命令將告知計算機你已經結束了當前的膜系設計，如果你沒有保存當前的膜系，它會詢問你是否想結束膜系。

save coating（保存膜系）

此命令用來保存你設計的膜系，當一個膜系保存后你仍可以繼續在這個膜系上設計。時常保存膜系是很好的習慣，這樣如果你遭

遇了停電，這樣的行為會挽回你的數據。快捷鍵：control-s

save coating as（另存膜系為）

此命令是在一個新目錄下保存膜系。你需要輸入新名稱，此命令尤其在你在相似的膜系上編輯或做運算時有很大用途。

revert to original（返回原始膜系）

用來返回當前膜系的原始狀態，例如，你用打開命令打開膜系或最后保存的膜系。此命令在你將一個膜系改動后卻不及原來的膜

系時有用。

print coating（打印膜系）

打印當前膜系。快捷鍵：control-p

打印機安裝使你能指定怎樣打印文本和圖表，你在設置打印機時會看到一個對話框來設置你的打印機。

exit tfcalc（退出tfcalc）

如果當前膜系沒有保存，tfcalc會詢問你是否保存。

about tfcalc（關于tfcalc）

給出一些tfcalc的信息，包括你所購買的程序的序列號。

edit menu（編輯目錄）：

編輯目錄列出了標準windows目錄，你可以使用這些命令來編輯你所需要的文本。下面主要講述每一個目錄項。

undo（撤銷命令）

undo在當前的程序中是無效的，如果你犯了錯誤，此命令對你沒有任何幫助。

cut（剪切）

移除你選定的文本，文本被保存在剪切板里。

copy（copy）

復制你選定的文本，文本被保存在剪切板里。

paste（粘貼）

將剪切板里的內容插入光標所在的位置。

clear（清除）

將選定的文本擦除。

使用說明：

1、the model（范例）                                           

存儲在光源數據庫內的光源是以波長對光強的方式給出的。入射角度可以從0度到89.999度。基底和基底內部、外部的介質材料可在基底數據庫中選擇。基底可以被看作是一大厚度層，它的厚度可以單獨指定。注意的是基底可以是比如說空氣之類的物質。基底和出射介質都有可能是吸收介質。前層膜與后層膜之間的材料是從材料庫中選擇的或者從可變材料庫中選取的。現在的膜層極限是5000層。基底和材料的光學屬性被存儲在表格或反映反射率對波長關系的離散公式里。

現在可以確定光從哪一個面入射：前或后層。也就是說，光可以從膜層的任意一個面入射。要獲得這方面的細節還要看環境參量對話框。

這樣第一層是緊靠基底的一層。

注意：如果基底和出射介質不同或有后層膜，反射率計算時就要考慮到后層膜。如果你想避免如此，出射介質就必須同基底材料一樣而且沒有后層膜。

2、capabilities（性能）                                         

tfcalc軟件可以使你分析設計多層薄膜，他們的一些功能如下：

它可以將反射率、透過率、吸收率、光密度、損失、顏色、亮度、psi、基于反射后投射的相移和電場強度計算并繪制表格。

它可以分析膜系設計同生產之間的誤差。優化可以使誤差最小化。膜層靈敏度可以計算并演示出來。

可以在一系列圓錐角（就像集中的光束一樣）和用戶定義的輻射發散角內分析一個膜系。

鍍膜所用膜料、基底和外部介質可能是彌散或者吸收的，而內部介質卻是彌散的。彌散公式可以用來給定膜料和基底的相關系數。

基底或膜層的折射率（n和k）可以由測定的數據來確定。光源要詳細說明。薄膜的折射或投射可以儲存作為光源，所以濾光器的輸出可作為另一個濾光器的輸入。同樣，黑體光源可以由此產生。